PVD真空镀膜技术性常见方式
发布日期:2020-10-30 作者:正德 点击:
(1)真空泵蒸镀:将需镀膜的基体清理后放进镀膜室,抽时间后将膜料加温到高溫,使蒸汽做到约13.3Pa进而蒸汽分子结构飞到基体表面,凝固而成薄膜。
(2)负极磁控溅射镀:将需镀膜的基体放到负极正对面,把稀有气体(如氩)进入已抽时间的房间内,维持气体压强约1.33~13.3Pa,随后将负极接好2000V的直流稳压电源,便激起电弧放电,带正电荷的氩正离子碰撞负极,使其射出去分子,磁控溅射出的分子根据可塑性氛围沉积到基体上产生膜。
(3)有机化学液相沉积:根据分解反应所选中的金属化合物或有机物,得到沉积薄膜的全过程。
(4)等离子喷涂:本质上等离子喷涂系真空泵蒸镀和负极磁控溅射镀的有机结合,兼具二者的加工工艺特性